空气等离子体刻蚀对金刚石薄膜性能的影响

摘要：

为了提高金刚石薄膜电学和辐射响应性能,在石英钟罩式MPCVD装置中,采用微波空气等离子体刻蚀处理来提高金刚石薄膜的纯度、电阻率和辐射剂量计响应性能,研究了不同的微波功率、气体流量、处理时间对金刚石薄膜电阻率、X光响应的影响,结果表明,空气等离子体中高能、高活性的氧和氮能有效刻蚀薄膜表面的石墨等非金刚石相,提高膜的纯度,使金刚石薄膜的电阻率从1.11×109Ω·cm提高到1.83×1014 Ω·cm,提高了5～6个数量级,且处理后的金刚石薄膜X射线响应灵敏度提高了15倍,并获得了最佳的空气等离子体刻蚀条件.空气等离子体刻蚀处理是一种易于掌控的刻蚀方法,可有效提高金刚石薄膜表面质量,且资源丰富,价格便宜.

关键词：金刚石薄膜、电阻率、CVD、等离子体、辐射剂量计

分类号：TQ163.2

资助基金：中国科学院资助项目10275046

在线出版日期：2006-06-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：30-32,48