基于湿法刻蚀的MEMS压印模版制作

摘要：

介绍了一种基于玻璃湿法刻蚀低成本的MEMS压印模版制作工艺,工艺中以单层光刻胶作为刻蚀掩模,重点研究了改善刻蚀图形几何轮廓和提高表面质量的方法.在对钻蚀形成机理进行分析的基础上,通过对比偶联剂不同涂敷方式及不同蒸镀时间对刻蚀结果的影响,优化了硅烷偶联剂的涂敷工艺,使钻蚀率降低到0.6,图形几何形状得到改善.分析了刻蚀生成物的溶解度,采用HCl作为刻蚀液添加剂对刻蚀产生的难溶物进行分解,提高了表面质量.对刻蚀表面缺陷的形成原因进行了分析,采用厚胶层工艺消除了表面缺陷.利用该工艺制作了图形特征尺寸为100 μm的MEMS压印模版,并进行了初步压印实验,得到了很高的复型精度.

关键词：MEMS、压印模版、玻璃、湿法刻蚀

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：中国科学院资助项目50305026

在线出版日期：2006-05-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：36-40,60