中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程回顾与现状

摘要：

@@ 中国的微光刻技术(包括光掩模制造技术和光刻技术)伴随着平面工艺技术的诞生逐渐发展起来,从1965年自主成功地研制出硅平面晶体管开始算起到2005年是我国集成电路诞生和发展的四十年,也是我国微光刻技术诞生和发展的四十年.大体上可以按年代划分成如下几个阶段:

机标关键词：中国、制版、微光刻技术、纳米加工技术、制造技术、硅平面、年代划分、集成电路、工艺技术、晶体管、光掩模、自主

分类号：TN3;TN4

在线出版日期：2006-05-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：扉页