基于旋涂的纳米压印技术研究

摘要：

尝试使用一种新的工艺--旋涂法来达到图案复制的目的,介绍了旋涂法完成图案复制的实验过程,就印章及其复制品的尺寸作了对比,并分析了实验中观察到的缺陷.得出在精确控制实验条件的前提下,可以通过旋涂方法得到高品质微纳米级图案的结论.

关键词：纳米压印、微复制、旋涂技术、PDMS印章

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：上海市科委资助项目0352nm010;国家科技攻关项目2004AA404260

在线出版日期：2006-03-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：21-24,36