MEMS器件中电极制作工艺的研究

摘要：

研究了常用的国产BP212正型紫外光刻胶和光学曝光机在利用剥离工艺制备电极中的适用性.结果表明,采用国产的光刻胶和曝光设备完全可以得到实用性的带有凹面的光刻胶剖面和线条均匀性达到微米级的金属线条,简化了lift-off工艺,降低了成本,改进了金属电极的制备方法.

关键词：光刻胶、剥离工艺、电极

分类号：TP271+.4(自动化技术及设备)

资助基金：中国科学院引进国外杰出人才基金20011215;国家高技术研究发展计划863计划2003AA404150

在线出版日期：2005-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：53-56