SU-8胶光刻工艺参数优化研究

摘要：

对基于SU-8胶的UV-LIGA技术进行了工艺优化,研究了光源波长和曝光时间对SU-8胶成型的影响.结果表明,光刻胶表面线宽变化随曝光时间增加先减少后增加,有一个极小值;侧壁角度先增加后减少,有一个极大值.通过优化光源波长、曝光时间以及显影时间三个主要工艺参数,可以获得侧壁角度为90.64°正角的300μm厚光刻胶微结构和侧壁角度为89.98°近似垂直的500μm厚光刻胶微结构.

关键词：UV-LIGA技术、SU-8胶、高深宽比、微结构

分类号：TN23(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2004AA404260

在线出版日期：2005-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：36-41,80