纳米压印光刻中模版与基片的平行调整方法

摘要：

概述了纳米压印光刻的原理,以及纳米压印光刻工艺中模版与基片的平行度对压印质量的影响,分析了国内外几种纳米压印光刻工作台的结构与特点,并对其优缺点进行了评价.

关键词：压印光刻、柔性铰链、工作台

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金50305026;国家高技术研究发展计划863计划2003AA404040

在线出版日期：2005-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：34-38