软X射线偏折仪用自支撑莫尔光栅研制

摘要：

介绍了莫尔光栅制作的主要方法和进展.利用紫外光刻、离子束刻蚀技术制作自支撑金莫尔光栅,讨论了金膜厚度要求、电镀金膜质量和光栅占空比控制等影响莫尔光栅质量的关键技术问题.实验结果表明,通过设计较小占空比的光栅掩模、紫外光刻时擦除基片边缘的光刻胶棱以消除衍射效应、离子束刻蚀时基片倾斜一定的角度旋转刻蚀等措施可以改善自支撑金莫尔光栅的占空比.

关键词：软X射线激光、Ronchi光栅、紫外光刻、离子束刻蚀

分类号：O434;TN247(光学)

在线出版日期：2005-05-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：38-42