电光调制技术在光刻对准中的应用

摘要：

介绍了投影光刻机离轴对准系统的结构和相位探测的原理,详细讨论了电光相位调制技术抑制杂散光的机理,并分析比较了有无杂散光对光刻对准精度的影响.结果表明,使用电光调制技术可有效提高投影光刻的对准精度.

关键词：光刻、对准、对准精度、电光调制技术、杂散光抑制

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家重点实验室基金KFS4

在线出版日期：2005-05-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：22-25,42