Pyrex玻璃的湿法刻蚀研究

摘要：

对Pyrex 7740玻璃的湿法刻蚀工艺进行了研究.实验中采用了几种不同的材料(光刻胶、Cr/Au、TiW/Au)作为刻蚀玻璃的掩膜,通过实验发现TiW/Au掩膜相对目前比较常用的Cr/Au掩膜有很多优点,如减少了玻璃的横向腐蚀,增加了深宽比,刻蚀图形边缘更加平滑等.还研究了腐蚀液成分配比对刻蚀结果的影响,发现刻蚀速率随HF浓度的增加而增加,且在HF浓度一定时,加入少量HNO3可以明显提高刻蚀速率.本文的实验结果对一些MEMS器件特别是微流体器件的制作有一定参考作用.

关键词：玻璃、湿法刻蚀、微机电系统(MEMS)、Pyrex 7740

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2005-02-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

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