液态金属离子源发射尖的制备工艺与技术

摘要：

发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一,其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性.通过对系统软件和硬件的设计,开发了一套发射尖自动腐蚀装置,该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和深度以及腐蚀电压进行控制,实现发射尖腐蚀工艺的重复性、可靠性,从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制、开发提供了一个有效的辅助工具.

关键词：聚焦离子束、液态金属离子源(LMIS)、发射尖

分类号：TN305.3(半导体技术)

在线出版日期：2005-02-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：11-15