X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究

摘要：

针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证.采用一种新的测试方法,即先通过软件得到大量的数据,然后再进行数据分析,得出LAPLAC算子在识别精度和对准精度两个方面比较好,而改进后的SOBEL II算子的对准时间最短,对准精度也很高.

关键词：X射线光刻、对准系统、拉普拉斯算子、识别精度、对准精度

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：17-22