100nm分辨率的移相掩模技术

摘要：

介绍了移相掩模技术的基本原理,对几种主要的移相掩模技术进行了比较,指出了各种移相方式的特点和应用局限性,并针对100nm分辨率的技术节点,阐述了各种移相方式在应用中应该解决的问题.

关键词：二元掩模、移相掩模

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60376020

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：27-32