电子束三维光刻技术的研究

摘要：

在IH(Integrated Harden Polymer Stereo Lithogmphy)技术和电子束光刻技术的基础上提出了电子束微三维光刻技术新概念.对其实现方法的可行性进行了简要的理论分析,并使用SDV-Ⅱ型真空腔在约1.33 Pa的真空下对环氧618、WSJ-202和苏州2号抗蚀剂进行了气化试验,得出了它们在真空中的气化实验结果,证明了电子束液态光刻的可行性.

关键词：IH、电子束、三维光刻、抗蚀剂

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：山东省科技发展基金022090105

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：9-13