纳米间隙电极的加工研究进展

摘要：

分类介绍了国内外加工纳米间隙电极的主要研究进展,并特别介绍了近期发展起来的一般光刻技术结合选择性化学沉积方法制备纳米间隙电极的研究结果,对今后的相关研究问题进行了讨论.采用选择性化学沉积技术制备镍双电极的间隙已可小于100 nm.该技术对于制备纳米间隙电极具有一定的优势.

关键词：纳米间隙电极、光刻、化学沉积

分类号：TN305(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金69890220,60171005;江苏省自然科学基金BK99006;高等学校优秀青年教师教学科研奖励计划TRAPOYT,2000

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：1-8,26