极紫外投影光刻掩模技术

摘要：

介绍了掩模基片的技术要求,分析了制备掩模多层膜的难点以及相应的解决措施,然后讲解了吸收层干刻法制备掩模的工艺流程,最后介绍了掩模缺陷的检测技术并概述了极紫外投影光刻掩模技术的现状.

关键词：极紫外、投影光刻、多层膜、掩模

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金69938020;国家重点实验室基金

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：16-21,41