采用微波等离子体平整金刚石薄膜的实验研究
金刚石薄膜的表面平整是金刚石薄膜应用于光学、电学等领域的关键.采用氧气作气源,研究了微波等离子体工艺参数如微波功率、基台位置、氧气流量对平整金刚石薄膜效果的影响.处理后的样品用SEM、AFM观察表面形貌、测试了表面粗糙度.实验表明微波等离子体工艺参数对金刚石薄膜的表面平整效果有显著影响,并且这些参数是相互关联的.在适宜的条件下,金刚石薄膜的表面粗糙度明显降低,约为处理前的一半.该法可对金刚石薄膜进行原位处理,方便有效.
金刚石薄膜、表面粗糙度、微波等离子体、平整
TN304.055(半导体技术)
国家自然科学基金69876026
2004-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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