热丝CVD法生长纳米金刚石薄膜的研究

摘要：

系统地研究了热丝CVD法中反应气体压力对沉积产物金刚石薄膜的形貌和拉曼谱图的影响,提出了热丝CVD生长纳米金刚石薄膜的新工艺,并在φ50mm硅片上沉积得到高质量的多晶纳米金刚石薄膜.高分辨透射电镜分析表明,薄膜的晶粒尺寸约为10nm,〈111〉晶面间距为0.2086m,与标准值0.2059nm很接近,晶粒周围由非晶结构包围.紫外激光拉曼光谱有尖锐的金刚石峰和明显的石墨峰.

关键词：纳米金刚石、薄膜、热丝CVD

分类号：TN304.055(半导体技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2002AA302613;上海市科技发展基金0159nm033;教育部重点实验室基金

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：27-33