离子注入改进硅光伏特性研究的发展动态
简述了利用缺陷促进硅光吸收特性的发展历史,概括了用离子注入引入局域缺陷,改进硅光吸收的技术,介绍了多国学者针对局域缺陷改进硅光吸收技术的研究结果及发展趋势.
硅、红外吸收、光伏效应
TN304.1+2(半导体技术)
2004-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
1-4,21
硅、红外吸收、光伏效应
TN304.1+2(半导体技术)
2004-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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