微反射镜和光纤自对准V型槽的制作

摘要：

用纯KOH水溶液和KOH+IPA混合水溶液在(100)硅片上沿＜100＞方向上腐蚀所暴露的平面是不同的.纯KOH水溶液中总是能暴露与衬底垂直的{100}面,在KOH+IPA溶液中,随着KOH的浓度不同将暴露{110}和{100}面.使用KOH浓度为50%的KOH+IPA溶液,在(100)硅片上一次掩模制作微反射镜和光纤自对准V型槽,微镜的表面粗糙度低于10nm.

关键词：KOH溶液、KOH+IPA溶液、微反射镜、表面粗糙度

分类号：TN25;TN929.11(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金69937010;吉林省科技发展计划20010319

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：66-69,74