离子束溅射制备的氧化钽层的绝缘特性

摘要：

介绍了一种具有高附着力和优良绝缘性能的Ta2O5介质膜,它由离子束溅射镀膜工艺制备而成.检测了在不同氧气流量下制备的氧化钽薄膜的绝缘性.结果表明:在其余条件相同的情况下,氧气流量越大所制备的薄膜绝缘程度越高.但当氧气流量达到一定的程度时,其绝缘程度不再有所变化.

关键词：离子束、溅射、氧化钽层、绝缘性

分类号：TN304.55(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：58-60