减小光刻中驻波效应的新方法研究

摘要：

光刻过程中,抗蚀剂内部光敏混合物(PAC)浓度受光场的影响呈驻波分布,导致抗蚀剂显影后的侧壁轮廓成锯齿状.分析了后烘(PEB)对PAC浓度分布的影响,模拟了不同后烘扩散长度下的抗蚀剂显影轮廓,从模拟结果可知利用后烘可明显减小驻波效应,得到平滑的抗蚀剂显影轮廓,提高光刻质量.

关键词：后烘(PEB)、光敏混合物(PAC)、驻波效应、模拟

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：36-39,44