变栅距衍射光栅刻划机的控制系统设计

摘要：

提出了采用相位扫描方法加工变栅距(VLS)光栅的基本原理,给出了VLS光栅刻划机的控制系统,并通过刻划实验对这一新方法进行了验证.

关键词：变栅距(VLS)光栅、刻划机、控制系统

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：32-35