利用Nikon光刻机进行膜应力评价

摘要：

MEMS器件制作过程中,结构薄膜的应力和膜内的应力梯度必须进行严格的控制,因而对于LPCVD工艺有特殊的要求.应力测量一般要借助专门仪器进行,在不具备测量设备的情况下,可以利用光刻机来进行膜应力评价.结合Nikon Stepper聚焦系统的技术特点,说明了膜应力评价的原理和具体做法,对光刻机应力测量的优劣进行了讨论,并给出了具体的测量实例.

关键词：薄膜、应力评价、聚焦系统

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：26-31