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场发射阵列发射性能下降机制分析

引用
场发射阵列(FEA)发射性能的下降是场发射显示(FED)研究中普遍遇到的一个问题,研究FEA发射性能下降的机制对于推进FED进展具有重要意义.阴极氧化、溅射损伤和离子注入是目前提出的三种解释.对这三种解释进行了进一步的分析和讨论,认为目前的实验工作还不足以充分说明哪种机制在FEA发射性能下降中占据主导地位,并提出了进一步的实验研究的方向和内容.

场发射阵列(FEA)、氧化、溅射、离子注入

TN102(真空电子技术)

2004-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

70-74

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微细加工技术

1003-8213

43-1140/TN

2002,(3)

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