PREVAIL--下一代电子束投影曝光技术

摘要：

PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术,采用可变轴浸没透镜,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光.在1mm2子场的情况下,运用步进扫描曝光方式,在100nm临界尺寸下具有较高的产量,与EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有力竞争者.

关键词：PREVAIL、电子束投影曝光

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金69906006

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

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