电子束曝光的Morte Carlo模拟

摘要：

建立一个更为严格地描述电子散射过程的物理模型,运用Monte Carlo方法模拟高斯分布电子束在靶体PMMA-衬底中的散射过程,研究不同曝光条件对沉积能密度的影响,获得的沉积能分布规律是:有利于降低邻近效应的高束能、薄胶层,提高曝光分辨率.

关键词：电子束曝光、Monte Carlo方法、散射、能量沉积

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家科技攻关项目KT0305-G9720,97-762-03-02;国家重点基础研究发展计划973计划G2000036504

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1-5,17