非晶SiOX薄膜的制备及光学特性的研究

摘要：

采用双离子束共溅射方法制备了SiOX薄膜,XRD和TEM的分析表明SiOX薄膜为非晶结构,XPS分析表明样品主要是以SiO190的形式存在于薄膜中.其光吸收谱呈现了明显的吸收边蓝移现象,且随薄膜厚度的增加,光吸收谱中出现了较明显的宽化的吸收峰.在室温下观察到了可见光致发光(PL)现象,探测到样品有四个PL峰,它们的峰位分别为～320nm、～410nm、～560nm和～630nm,且峰位和峰强不随膜厚的增加而发生变化.

关键词：SiOk薄膜、光吸收、光致发光(PL)

分类号：TN304.55(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：39-43