投影光刻机工作台的压力-真空平衡气足研究

摘要：

主要介绍投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足设计,对压力-真空平衡气足的径向压力分布、最大刚度、最佳气膜间隙以及承载能力进行了分析,并给出了气足结构参数的优化设计.

关键词：光刻机、压力-真空平衡气足、优化设计

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：33-35