CVD金刚石薄膜RIE掩模技术研究

摘要：

金刚石薄膜反应离子刻蚀(RIE)必须选用硬掩模,基于掩模刻蚀选择比和掩模图形化加工特性考虑,镍和镍钛合金掩模是较好选择,其中,NiTi合金薄膜具有刻蚀选择比高、加工工艺简单、图形化效果好的优势,Ni掩模特别是电镀方法制作的Ni掩模以其精确的尺寸控制能力、理想的多层结构模式和适当的刻蚀选择比而特别适合于精细结构加工时使用.使用上述掩模对金刚石薄膜进行RIE,可以获得线条整齐规则、侧壁平滑陡直的优异加工效果.

关键词：金刚石薄膜、反应离子刻蚀、掩模

分类号：TN304.055;TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：74-80