电子束曝光高斯分布束斑的Monte Carlo模拟

摘要：

经过严格论证,提出一种计算简便,易于软件实现的电子束束斑直径定义方法,在此基础上运用Monte Carlo方法对高斯分布电子束斑进行模拟,给出模拟电子数分别为5000、20000、50000、100000时的模拟结果.

关键词：电子束曝光、Monte Carlo方法、电子束束斑、高斯分布

分类号：TN305@7(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：60-63