MEMS单片集成新方法及关键技术的研究
提出一种与标准IC工艺兼容的MEMS单片集成新方法-后微机械技术,研究了与之相关的关键技术,PECVD淀积SiC保护电路技术及多孔硅牲层技术,并进行了多孔硅牺牲层技术的实验研究,取得了满意的结果.
MEMS、PECVD SC、多孔硅、牺牲层、单片集成
TN305;TN304(半导体技术)
国家重点基础研究发展计划973计划G1999033108;清华大学校科研和教改项目199925001
2004-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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