非梯度折射率型面阵平面微透镜

摘要：

采用常规的光刻热熔法及灰度掩模技术,结合离子束蚀刻与溅射制作面阵非梯度折射率型平面折射和平面衍射微透镜,定性分析了不同的工艺条件下所得到的平面端面微光学器件的种类和形貌特征,给出了在石英衬底表面通过光刻热熔工艺和氩离子束蚀刻所得到的两种球面及圆弧轮廓特征的面阵凹形掩模的表面探针测试曲线,对平面微透镜阵列与IRCCD成像芯片和半导体激光器阵列的集成结构作了初步分析.

关键词：非梯度折射率、平面微透镜阵列、离子束蚀刻与溅射

分类号：TN305@7(半导体技术)

资助基金：中国博士后科学基金;湖北省自然科学基金2000JI50

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：76-80