脉冲溅射技术在氧化铝薄膜沉积中的应用

摘要：

脉冲溅射是一种新型的、用于消除直流反应溅射中异常放电的技术.通过采用金属铝靶和自制的脉冲电源进行了氧化铝薄膜的脉冲磁控反应溅射沉积实验,讨论了脉冲溅射参数对异常放电的抑制效果,以及对氧化铝薄膜的沉积速率和折射率的影响.

关键词：脉冲溅射、氧化铝薄膜、反应溅射

分类号：TN305@92;TN304@055(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：35-39