提高光刻图形质量的双曝光技术

摘要：

双曝光技术能提高图形对比度和分辨率,可改善焦深,从而提高光刻图形质量.介绍了双曝光技术原理和几种双曝光方法,同时,提出采用双曝光技术,结合相移掩模和光学邻近效应校正来提高光刻分辨率,给出了双曝光光刻方法的实例及计算机模拟结果.

关键词：光学光刻、双曝光技术

分类号：TN305@7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60076019;国家自然科学基金JK9910;国家重点实验室基金KFS9909

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：20-23