用光致抗蚀剂膜层制作衰减相移掩模

摘要：

提出一种用光致抗蚀剂膜层制作单层结构衰减相移掩模的新方法,介绍这种方法的原理和制作工艺,并给出这种方法制作的衰减相移掩模用于准分子激光光刻实验,得到显著提高光刻分辨力的实验结果.

关键词：光致抗蚀剂、衰减相移掩模、分辨力、光刻

分类号：TN305@7(半导体技术)

资助基金：中国科学院资助项目AK9704;国家重点实验室基金KFS9902

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：6-9,34