强流金属离子注入

摘要：

金属等离子体浸没注入(MEPIII)技术与金属蒸气真空弧(MEVVA)源注入技术有相同之处，也有各自不同的特点。采用两种方法进行钛离子注入硅，RBS方法分析注入层，并对两种注入技术予以比较。

关键词：金属离子注入、MEVVA、MEPIII

所属期刊栏目：1

分类号：TN305.3(半导体技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划863-715-008-0040

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：22-25