亚微米接触式X射线曝光对准系统

摘要：

介绍了接触式X射线曝光对准系统的设计原理，对其关键部分(精密调整台、微位移控制、对准光学系统等)做了详细阐述，并进行了系统的精度分析。

关键词：X射线光刻、掩模、硅片、对准

所属期刊栏目：1

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：14-17,61