基于凸投影算法的多相位掩模设计原理研究

摘要：

根据所需光刻图形的分布，反推掩模结构的思路，提出了一种基于交替投影算法的掩模设计方法。该方法设计出的掩模为振幅和相位连续。并给出了一个设计实例和量化方法。实验结果表明该方法对复杂相移掩模的设计有效，可以减小邻近效

关键词：相移掩模、凸投影、多相位

所属期刊栏目：1

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家重点实验室基金;国家自然科学基金69876041

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：8-13