用于高分辨大视场微光刻的全息照相技术研究

摘要：

介绍一种全息光刻技术的基本原理，全息掩模复位精度的影响，全息光刻技术的优点及基本应用，并对全息光刻系统的设计考虑作了详细介绍，并给出部分实验结果。

关键词：光刻技术、全息照相、全息微光刻、TIR全息

所属期刊栏目：1

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金69776028;国家重点实验室基金KFS9901

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1-7