电磁驱动MEMS可调式光衰减器的研制
研制了一种工作在1550nm波长范围内的单模光纤微机械可调式光衰减器.该衰减器利用非硅表面微加工工艺(这种工艺采用光致抗蚀剂和溅射铜薄膜作为牺牲层,电镀铁镍层作为结构层来制作MEMS元件)制作,由电镀铁镍层构成的一个插在两对准光纤空隙中的挡光片,一个平面电感线圈,一个硅弹簧和二个带有V型槽的光纤对准元件构成.电镀铁镍制作的挡光片被固定在一个硅弹簧上,该挡光片采用非硅表面微加工工艺制作,平面电感线圈利用高深宽比的光刻工艺和掩蔽电镀工艺制作,硅弹簧和光纤对准元件采用反应离子刻蚀和硅的各向异性腐蚀工艺制作.
微光机电系统、可调式光衰减器、微机械、电磁驱动
TN271+.4;TN715(光电子技术、激光技术)
2004-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
56-59,67