光刻胶灰化技术用于同步辐射闪耀光栅制作

摘要：

在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息-离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中,并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了12001/mm,闪耀波长为130nm的锯齿槽形光栅.测试结果表明光刻胶灰化处理对制作大面积优质的光刻胶光栅非常有效和实用.

关键词：全息光刻、离子束刻蚀、光刻胶灰化工艺

分类号：TN305.7;TB65(半导体技术)

资助基金：国家"211"工程建设项目

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：35-38