LIGA技术X光深层光刻工艺研究

摘要：

通过在北京高能所3W1束线上进行的X光深层光刻工艺研究,获得了侧壁光滑、陡直,厚度达100μm,深宽比达20的光刻胶和金属微结构,表明该光束线适用于LIGA技术的研究.

关键词：LIGA技术、X光深层光刻

分类号：TP271(自动化技术及设备)

资助基金：上海市教委"曙光计划"97SG10

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：66-69,61