亚半微米投影光刻物镜的研究设计

摘要：

介绍了分步重复投影光刻机亚半微米光刻物镜光学和机械结构研究设计、设计结果,以及公差控制.指出技术指标已达到:数值孔径NA=0.63、工作波长λ=365nm、倍率5x、工作分辨力R≤0.35μm,设计物镜所用透镜片数最少,无胶合件,并具有暗场同轴对准和温度气压控制补偿功能.

关键词：亚半微米光刻、投影物镜

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：26-30