自动加标仪的研制及其在ICP-MS/MS分析电子级湿化学品痕量杂质元素中的应用

摘要：

随着半导体产业的高速发展,尤其近年来集成电路朝着纳米级方向不断进步,使得对衬底硅片表面洁净度要求日益严格.现阶段多采用湿法化学清洗处理硅片表面,过程涉及多步清洗并使用多种高纯试剂,如 H2 SO4、HNO3、HF、H2 O2、NH3·H2 O、HCl等.本文通过自研的加标仪配合三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪,标准加入法检测复杂基体中痕量元素杂质.样品通过自吸模式稳定引入,经加标仪检测流速,根据预先设定加标程序,系统自动匹配添加量并持续稳定引入标准物质.加标仪的使用一方面消除基体干扰,另一方面避免加标过程因人工操作引入的结果偏差,检测结果满足 ng/L 级痕量元素杂质检测.

关键词：标准加入法、电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)、痕量元素杂质

所属期刊栏目：4

分类号：TM712(输配电工程、电力网及电力系统)

在线出版日期：2023-08-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：78-81