N掺杂对 β-Ga2O3薄膜日盲紫外探测器性能的影响

摘要：

单斜氧化镓(β-Ga2O3)材料因其独特而优异的光电特性在日盲紫外探测领域具有广阔的应用前景,受到国内外研究者的广泛关注.本研究工作采用射频磁控溅射技术,在c面蓝宝石衬底上制备了未掺杂和氮(N)掺杂β-Ga2O3薄膜,研究了N掺杂对β-Ga2O3薄膜结构及光学特性的影响;在此基础上,构筑了未掺杂和N掺杂β-Ga2O3薄膜基金属-半导体-金属(metal-semiconductor-metal,MSM)型日盲紫外探测器,并讨论了N掺杂影响器件性能的物理机制.结果表明,N掺杂会导致β-Ga2O3薄膜表面形貌变得相对粗糙,且会促使β-Ga2O3薄膜由直接带隙向间接带隙转变.所有器件均表现出较高的稳定性和日盲特性,相比之下,N掺杂β-Ga2O3薄膜器件能展现出较低的暗电流和更快的光响应速度(响应时间和恢复时间分别为40和8 ms),与氧空位相关缺陷的抑制密切相关.本研究对开发新型的高性能日盲紫外探测器具有一定的借鉴意义.

关键词：β-Ga2O3薄膜、N掺杂、日盲紫外探测器、快速响应

所属期刊栏目：70

资助基金：国家自然科学基金;重庆市自然科学基金;重庆市教育委员会科学技术研究项目

在线出版日期：2021-09-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：332-340