Ag缓冲层对ZnO∶Al薄膜结构与光电性能的改善

摘要：

在室温条件下,采用射频磁控溅射法在玻璃基底上制备出了一系列高质量的AZO薄膜和不同Ag缓冲层厚度的AZO/Ag/AZO复合薄膜.利用X射线衍射和原子力显微镜分别对薄膜的物相和表面形貌进行了表征;利用霍尔效应测试仪和紫外-可见光分光光度计等实验技术对薄膜的光电性能进行了研究.实验结果表明,Ag缓冲层厚度对AZO薄膜的晶体结构和光电性能影响较大.当Ag层厚度为10 nm时,AZO(30nm)/Ag(10 nm)/AZO(30 nm)薄膜拥有最优品质因子,为1.59×10-1Ω-1,方块电阻为0.7Ω/□,可见光区平均透过率为84.2％.另外,薄膜电阻随温度的变化趋势呈现金属电阻随温度的变化特性,光电热稳定性较好.

关键词：射频磁控溅射、AZO/Ag/AZO、光电性能

所属期刊栏目：66

分类号：O48;TG1

资助基金：国家自然科学基金批准号:11140064,11304081,51301062资助的课题.Project supported by the National Natural Science Foundation of China Grant .11140064,11304081,51301062

在线出版日期：2017-05-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：322-329