基于光克尔效应的径向光束匀滑新方案?

摘要：

针对惯性约束聚变装置中提高靶面辐照均匀性的要求，提出了一种基于光克尔效应的径向光束匀滑方案，其基本原理是利用光克尔介质和周期性高斯脉冲光束相互作用实现对激光束透射波前附加周期性的球面位相调制，以周期性地改变激光束远场焦斑尺寸，进而引起远场焦斑内部散斑的快速径向扫动，从而在积分时间内抹平靶面焦斑的强度调制，实现径向方向的光束匀滑。通过建立基于光克尔效应的径向光束匀滑的理论模型，分析了焦斑形态及其径向匀滑特性，并讨论了光克尔介质的选取和径向扫动特性。结果表明，基于光克尔效应的径向光束匀滑方案可以有效地实现远场焦斑内部散斑的周期性径向扫动，从而在积分时间内快速改善靶面辐照均匀性。

关键词：惯性约束聚变、径向光束匀滑、光克尔效应、均匀性

所属期刊栏目：65

分类号：TN2;O6

资助基金：国家重大专项应用基础项目JG2014114资助的课题

在线出版日期：2016-06-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：094207-0-094207-8