抗辐射双极n-p-n晶体管的研究
根据发射极周长与面积比(P/A)最小的原则,优化设计了双极n-p-n晶体管的尺寸参数,采用20V双极型工艺设计制造了三种抗辐射加固的n-p-n晶体管.测试表明,在总剂量为1kGy的辐照条件下,所制备的发射结加固型n-p-n晶体管和含有重掺杂基区环的n-p-n晶体管,辐照后的电流增益比常规结构的n-p-n晶体管高10%—15%;而两种加固措施都有的n-p-n晶体管,辐照后的电流增益比常规结构的n-p-n晶体管高15%—20%.
双极n-p-n晶体管、辐射效应、电流增益、抗辐射
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TN32(半导体技术)
电子薄膜与集成器件国家重点实验室创新基金CXJJ200905
2012-04-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
773-777