离子束溅射制备Nb2O5光学薄膜的特性研究

摘要：

研究了离子束溅射(IBS)制备的Nb2O5薄膜的光学特性、应力、薄膜微结构等特性,系统地分析了辅助离子源的离子束能量和离子束流对薄膜特性的影响.结果显示,在辅助离子源不同参数情况下,折射率在波长550 nm处为2.310-2.276,应力值为-281-152 MPa.在合适的工艺参数下,消光系数可小于10-4,薄膜具有很好的表面平整度.与用离子辅助沉积(IAD)制备的薄膜相比,IBS制备的薄膜具有更好的光学特性和薄膜微结构.

关键词：Nb2O5薄膜、离子束溅射、光学特性、应力

所属期刊栏目：60

分类号：O484.41(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60708013;60608014;浙江省自然科学基金Y1090504

在线出版日期：2011-07-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：681-686